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國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃NQI專項(xiàng)“片上納米幾何量與電學(xué)量計(jì)量技術(shù)研究及應(yīng)用”項(xiàng)目實(shí)施方案通過論證

發(fā)布時(shí)間:2023-04-07 作者: 來源: 瀏覽:1110

3月24日,由中國計(jì)量科學(xué)研究院(以下簡稱“中國計(jì)量院”)牽頭承擔(dān)的國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃“國家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施體系”重點(diǎn)專項(xiàng)(以下簡稱“NQI專項(xiàng)”)“片上納米幾何量與電學(xué)量計(jì)量技術(shù)研究及應(yīng)用”實(shí)施方案論證會在中國計(jì)量院和平里院區(qū)召開。

中國21世紀(jì)議程管理中心、市場監(jiān)管總局科財(cái)司相關(guān)領(lǐng)導(dǎo),中國計(jì)量院副院長戴新華及相關(guān)部門負(fù)責(zé)人,項(xiàng)目和課題負(fù)責(zé)人、各承擔(dān)單位代表共40余人參會。哈爾濱工業(yè)大學(xué)儀器科學(xué)與工程學(xué)院院長劉儉、中國科學(xué)院微電子研究所研究員周維虎、清華大學(xué)精密儀器系教授曾理江、北京大學(xué)集成電路學(xué)院教授張大成等10位項(xiàng)目咨詢專家參會指導(dǎo)。會議以線上線下結(jié)合的方式進(jìn)行。

論證會

 

會上,中國計(jì)量院副院長戴新華對參會的領(lǐng)導(dǎo)和專家表示歡迎,從重視項(xiàng)目的執(zhí)行、加強(qiáng)項(xiàng)目成果與產(chǎn)業(yè)實(shí)際需求結(jié)合等方面對項(xiàng)目提出要求。中國21世紀(jì)議程管理中心和市場監(jiān)管總局科財(cái)司相關(guān)領(lǐng)導(dǎo)對項(xiàng)目實(shí)施管理提出要求。項(xiàng)目負(fù)責(zé)人、中國計(jì)量院副研究員楊雁匯報(bào)了項(xiàng)目的總體情況、技術(shù)路線及預(yù)期成果等。來自中國計(jì)量院、同濟(jì)大學(xué)、中科院微電子所等單位的課題負(fù)責(zé)人分別介紹了各課題的具體任務(wù)及實(shí)施方案。

項(xiàng)目咨詢專家組成員從各自專業(yè)角度為項(xiàng)目及課題實(shí)施提出了咨詢意見。中國計(jì)量院相關(guān)部門負(fù)責(zé)人介紹了項(xiàng)目管理和經(jīng)費(fèi)管理的制度辦法。

合影

 

據(jù)項(xiàng)目負(fù)責(zé)人楊雁介紹,集成電路產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展離不開片上精密測試與計(jì)量技術(shù)。當(dāng)前,對片上關(guān)鍵特征參數(shù)的高精度檢測與量值溯源是集成電路工藝中亟需解決的共性計(jì)量問題。該項(xiàng)目以研制片上納米幾何量與電學(xué)量計(jì)量核心器件及相關(guān)計(jì)量裝置為目標(biāo),擬建立面向集成電路片上膜厚、高密度光柵及位移傳感、電容和功率參數(shù)的計(jì)量校準(zhǔn)能力,并開展相應(yīng)成果的應(yīng)用示范。

項(xiàng)目將突破片上膜厚、高密度光柵、電容和微波功率標(biāo)準(zhǔn)器件的制備和計(jì)量技術(shù)瓶頸,實(shí)現(xiàn)片上膜厚和高密度光柵及位移傳感的高精度溯源,解決片上微小電容與微波功率參數(shù)定標(biāo)溯源技術(shù)不足與標(biāo)準(zhǔn)芯片缺失的難題。該項(xiàng)目的完成,將有助于提高集成電路產(chǎn)業(yè)鏈經(jīng)濟(jì)質(zhì)量效益和核心競爭力,助力我國半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。(文:張欣、石亞楠  圖:石亞楠)

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