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Innova推出高精度尺寸光學(xué)測量機

發(fā)布時間:2008-02-19 作者: 來源: 瀏覽:1219

       Micro-Metric公司開發(fā)的Innova光學(xué)測量系統(tǒng)可用于半導(dǎo)體、光電器件和微機電系統(tǒng)(MEMS)裝置等微小尺寸的點到點(PTP)和視場(FOV)非接觸式測量。視場測量的最小尺寸為0.5μm,測量精度可達0.010μm(10nm);除可手動進行單點測量外,還可通過編程進行全自動逐點順序測量。儀器采用了移動行程為(200×200)mm(X,Y)的高精密工作臺和能進行精密深度測量的共焦顯微鏡,并可對亮度轉(zhuǎn)換進行亞象素級插補,從而可實現(xiàn)亞微米線寬的測量。通過分析被測物體的邊緣銳度,顯微鏡可在最佳焦點處實現(xiàn)自動聚焦定位。

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